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NANYTE BEAM臺式無掩模光刻機/激光直寫系統設計的納米圖案結構，無需昂貴的掩膜可直接通過激光光刻圖案。在確保其優異性能的同時，小型化設計使得操作更為便捷，且實現快速加工處理，不但提高了微納米器件科研和生產的效率，還有效的節省了成本。

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納米壓印系統，針對大學實驗室、研究所微納米加工研究設計，配備溫度控制和低壓控制系統，使用方便，性能穩定可靠；同時配合專業設計的壓印模板，可實現各種微納米圖形加工，特征線寬小于20nm；